國產等離子刻蝕機

簡要描述：PLUTO-MH國產等離子刻蝕機是針對于高校，科學研究所和企業實驗室，或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。

產品型號：PLUTO-MH
廠商性質：生產廠家
更新時間：2025-08-15
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等離子刻蝕機

科研型等離子刻蝕機

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詳細介紹

國產等離子刻蝕機

　　PLUTO-MH國產等離子刻蝕機特點：

　　1.針對于對等離子體處理有嚴苛要求的場合中使用

　　2.等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發生器，兼顧物理反應和化學反應

　　3.采用500W功率電源，自動阻抗匹配，高功率射頻發生器可應對各種實驗要求，保障高能量密度和高處理效率

　　4.高精度真空度控制，適應各種處理需求

　　5.316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金)，全不銹鋼管路和連接件，適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)

　　6.4.3寸工業級觸摸屏，軟件操作方便，多種參數設置和工藝組合處理模式

　　7.可增加多種配件，涂覆鍍膜，電極溫度控制，等離子體強度控制，等離子體化學反應等功能(如有特殊應用，請咨詢銷售人員)

　　8.根據用戶需求，提供對應等離子體處理方案和定制特殊用途設備

　　PLUTO-MH國產等離子刻蝕機參數:

　　真空腔規格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

　　電極：兩個自適應平板電極，材質T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)

　　電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(可反轉)

　　等離子體發生器：RF射頻發生器，頻率：13.56MHz

　　功率：0-500W連續可調，自動阻抗匹配,精度1W

　　氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件

　　控制方式：4.3寸工業控制觸摸屏

　　控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態，

　　可顯示設置值與實際值，便于實時控制。

　　可自由設置等離子功率，通入氣體時間

　　多級操作權限,多種工藝參數組合控制,

　　全手動控制和全自動控制可選

　　保護裝置：一鍵急停保護按鈕

　　(如需其他功能,請咨詢銷售人員)

PLUTO-MH國產等離子刻蝕機應用領域:

　　配置不同模塊，拓展不同應用

　　加熱電極模塊-溫度可控，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性

　　沉積鍍膜模塊，改變表面特性：

　　沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性

　　沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性

　　沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結合效果

　　感應耦合模塊-感應耦合等離子體裝置

　　氣體混合裝置

　　可以根據可以要求進行混氣設計

　　氣體純化和反應

　　氣體純化和使用等離子體與相關材料進行化學反應

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